Lühike tutvustus titaanplaadile

Titaniumplaat on põrkega metallplaat, mille põhikomponendina on titaan. See rakendab Hiina riiklikke standardeid GB/T3621-2007, GB/T13810-2007 ja Ameerika standardid ASTM B265, ASTM F136 jne, mis hõlmab TA, TB, TC ja American Standard GR, Vene Standard BT-seeria kodumaiseid sarja. Selle tootmisprotsess hõlmab kuuma sepistamist, kuuma veeremist, külma veeremist, lõõmutamist ja muid protsesse. Tooted jagunevad kolmeks olekuks: kuum töötlemine, külm töötlemine ja lõõmutamine. Titaniumplaati kasutatakse pinnaoksiidkile omaduste tõttu laialdaselt elektrolüütilise vase tootmisel. See võib asendada traditsioonilisi eraldajaid ja saavutada tööelu kolm korda vase seemneplaatide oma. Samal ajal parandab see elektrolüütilise vase kristallkvaliteeti ja vähendab tootmiskulusid.